| 型号 | 原料气 | 纯化后杂质指标 |
| 7H-DG | ≥99.999% | O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2≤10ppb，颗粒≤0.01μm |
| 6H-DG | ≥99.99% | O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2≤0.1ppm，颗粒≤0.1μm |
| 7H-G | ≥99.999% | O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2≤10ppb，颗粒≤0.01μm |
| 6H-G | ≥99.999% | O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2≤0.1ppm，颗粒≤0.1μm |
说明：
①稀有气体不计算为杂质；
②再生氢气消耗量为产品气的5—10%；
③激活氩气指标要求：压力：≥0.2Mpa、纯度≥99.999%、露点≤-50℃；
④常用规格有：5、10、20、35、50、75、100、150、200、300、400Nm3/h等。
设备特点
•抗波动能力强，原料气杂质短时间波动至设计值200%不影响产气纯度；
•抗意外能力强，短时间断电、断水不影响产气纯度；
•具备完善的报警联锁系统，可实现无人值守全自动运行；
•按国家标准进行防爆处理，不能放在防爆箱中的采用充氮气保护；
应用领域
单晶硅的冶炼、拉制，晶片外延保护气体； 科研院所，大专院校；
电子、微电子行业的研制与生产； 超纯气体分析；
精密不锈钢加工、热处理保护气； 混合气、标准气体的配制;
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