型号 | 原料气 | 纯化后杂质指标 |
7H-D | ≥99.999% | O2、H2O、CO2≤10ppb,颗粒≤0.01μm |
6H-D | ≥99.99% | O2、H2O、CO2≤0.1ppm,颗粒≤0.1μm |
6H-H(E)D | ≥98% | O2、H2O、CO2≤0.1ppm,颗粒≤0.1μm |
说明:
①再生氢气消耗量为产品气的5—10%;
②可加氮气进行再生以节约再生氢气消耗量,如产品气对氮要求高则不建议使用;
③HD系列的氢气消耗量及是否用E工序视原料气氧含量而定;
④常用规格有:5、10、20、35、50、75、100、150、200、300、400Nm3/h等。
设备特点
•抗波动能力强,原料气杂质短时间波动至设计值200%不影响产气纯度;
•抗意外能力强,短时间断电、断水不影响产气纯度;
•具备完善的报警联锁系统,可实现无人值守全自动运行;
•按国家标准进行防爆处理,在防爆箱中的采用充氮气保护;
•不可高压纯化,纯化压力不超过4.0MPa。
应用领域
光导纤维的研制生产; 晶片外延保护气体;
大规模集成电路的研制与生产; 精密不锈钢加工、处理;
科研院所院校实验研究及超纯气体分析; 混合气、标准气体的配制。