| 型号 | 原料气 | 纯化后杂质指标 |
| 7R-D | ≥99.999% | O2、H2O、CO2≤10ppb，颗粒≤0.01μm |
| 6R-D | ≥99.99% | O2、H2O、CO2，颗粒≤0.1μm |
| 7R-G | ≥99.999% | O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2、H2≤10ppb，颗粒≤0.01μm |
| 6R-G | ≥99.998% | O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2、H2≤0.1ppm，颗粒≤0.1μm |
| 7R-DG | ≥99.999% | O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2、H2≤10ppb，颗粒≤0.01μm |
| 6R-DG | ≥99.99% | O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2、H2≤0.1ppm，颗粒≤0.1μm |
说明：
①D工序再生氢气消耗量为产品气的1%左右，指标要求：压力：≥0.2Mpa、纯度≥99.999%、露点≤-50℃、不含油类及硫氯砷等化合物；
②对氦气、氖气、氪气、氙气等贵重气体为了减少损耗可采用特殊工艺及措施；
③常用规格有：5、10、20、35、50、75、100Nm3/h等。
设备特点
•抗波动能力强，抗意外能力强，短时间断电、断水不影响产气纯度；
•具备完善的报警联锁系统，可实现无人值守全自动运行；
•可高压纯化，避免膜压缩机的污染。
应用领域
单晶硅的冶炼、拉制，晶片外延保护气体； 碳纤维的生产过程；
大规模集成电路的研制与生产； 科研院所，大专院校；
混合气、标准气体的配制，超纯气体分析；
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